跳到条目索引
OhmPedia 电路词林

按术语编排的电子学基础参考书架。

English 中文

OhmPedia半导体器件金属氧化物半导体场效应管

金属氧化物半导体场效应管

MOSFET I_D = ½ k (V_GS − V_th)²

符号
I_D = ½ k (V_GS − V_th)²
单位
V_th in volts (1–4 V typical) · k in A/V² · R_DS(on) in milliohms
所属节
半导体器件
发布
2026-09-15
作者

增强型 MOSFET 中,高于阈值的栅压使栅下半导体表面反型,形成导电沟道。由于栅极有绝缘层,稳态下没有栅极电流,因此器件由电压而非电流控制;其导通状态用电阻而不是饱和压降来描述。

电压控制型晶体管,用绝缘栅极决定漏源之间流过的电流。

绝缘栅设定沟道,稳态下无栅极电流。
绝缘栅设定沟道,稳态下无栅极电流。
支配关系式 I_D ≈ ½ k (V_GS − V_th)² P_gate = Q_g · V_GS · f_sw P_cond = I² · R_DS(on) V_th in volts (1–4 V typical) · k in A/V² · R_DS(on) in milliohms

阈值、过驱动与平方律

低于阈值时器件关断,仅有亚阈值漏电。高于阈值后漏极电流大致按栅极过驱动电压的平方上升:I_D ≈ ½k(V_GS − V_th)²。若阈值 3 V 却用 3.3 V 逻辑驱动,只剩 0.3 V 过驱动,沟道几乎通不了;同一只管子用 10 V 栅压驱动,导通电阻只有零点几欧。多数 MOSFET 电路失败的原因在于栅极驱动电压,而不在标称电流能力。

R_DS(on) 与温度的意外

导通电阻按 25 °C 标定,硅器件到 125 °C 时大致翻倍,因为载流子迁移率随温度下降。10 mΩ 的管子过 20 A,冷态耗散 4 W,热态 8 W。而正温度系数其实是好事:并联的 MOSFET 会自动均流,这点与 BJT 相反。

25 °C 的 R_DS(on)125 °C 典型值20 A 冷态耗散20 A 热态耗散
5 mΩ≈ 9 mΩ2.0 W3.6 W
10 mΩ≈ 19 mΩ4.0 W7.6 W
40 mΩ≈ 75 mΩ16 W30 W

栅极电荷才是真正的开关限制

栅极是电容,每次边沿都要消耗能量:P = Q_g · V_GS · f_sw。总栅极电荷 30 nC 的器件,栅压 10 V、开关频率 200 kHz,仅驱动就耗掉 60 mW,还没算导通损耗。该引用的参数是总栅极电荷而非栅极电容,因为前者已经包含了使栅压在漏压摆动期间停滞的米勒平台。

体二极管、雪崩与死区

每只 MOSFET 都含一个源漏之间的寄生二极管。它在低边开关中能钳住感性反冲,很方便,但速度慢且反向恢复带来额外损耗。在同步半桥中,两只管子必须在切换之间保持足够长的死区,绝不能同时导通——因为直通电流仅受两条沟道限制,微秒之内就会把两只管子全烧掉。

算例

一只低边 N 沟道 MOSFET 开关 12 V、5 A 负载,25 °C 时 R_DS(on) = 10 mΩ。冷态导通损耗 25 × 0.010 = 0.25 W;100 °C 时电阻约 16 mΩ,损耗 0.40 W。若结到环境热阻为 50 K/W,结温比环境高约 20 K,不加热片即可接受。若改用 3.3 V 逻辑脚经 100 Ω 栅极电阻驱动,栅极电容 2 nF 使上升时间约 200 ns;每次切换期间器件都经过压降 6 V、电流 2.5 A 的区域,平均功率 7.5 W 持续 200 ns,每个开关周期发生两次。

先读

相邻条目

架外延伸

Sources · 参考出处

  • Northern Illinois University https://nicadd.niu.edu/~fortner/course/phys375/lect/p375_05a.pdf
  • University of Mississippi http://www.phy.olemiss.edu/~cremaldi/PHYS417/DiodeBasics.pdf
  • Physics LibreTexts https://phys.libretexts.org/Bookshelves/University_Physics/University_Physics_(OpenStax)/University_Physics_II_-_Thermodynamics_Electricity_and_Magnetism_(OpenStax)